半导体加工废水怎么处理方法|半导体加工废水处理案例
顶目历史背景
该二极管芯片封装软件测试厂地属珠半圆地,其主要的生产BGA、QFP等融合用电线路二极管芯片封装的产品。现在生产量变大,原先的电镀废渣外理系统化超负担完成,且是无法效果外理新开的含氰电镀废渣。的投资金额人1200亿元完成改进,设计的外理的能力800吨/日。
污废水 基本成分及渠道
含氰废渣:化学镍生产工序引发,氰化物溶度30-50mg/L;
高催化需氧量废气:产自催化镀工艺技术,催化需氧量盐浓度300-500mg/L;
有机会物废水处理方法:打包封装板材清洁工作呈现,含氯化橡胶漆树脂胶等有机会物物;
强酸强碱生活污水:各工艺刷洗水比调而成。
解决新工艺环节
更新后的体系进行"物理化学预解决+生物化学解决+初中级被氧化"工序路线图:
含氰污废水 治理 :
含碱氯化法:分一级破氰,4级钝化反应ORP掌握在300-350mV,一级钝化反应ORP>600mV;
在线上监测网:城市热力图网络监控余氯和氰化物渗透压。
高挥发酚焦化废水净化处理:
吹脱塔预加工处理:pH调至11,气水比3000:1,高锰酸盐指数我们要除率70%;
短程活性污泥反活性污泥:调控DO在0.5mg/L下例,增加碳源25%。
综和处置系统化:
蛋白质水解碱化池:加快生产废水可生化模式性;
接觸被氧化池:三人组合骨料,气水比15:1;
有效率析出池:斜管悬浮填料,从表面供电量1.0m³/(㎡·h)。
角度操作单元测试:
Fenton阳极氧化:H2O2加药量200mg/L,Fe²⁺80mg/L;
生物工程活力性炭滤池:进1步的还原COD和对比度。
从而使用效果
更新改造后程序程序作业稳定的,溢水COD<40mg/L、高锰酸盐指数<5mg/L、总氰化物<0.2mg/L,各个依据更为重要位置尾气排放基准。吨水操作制造费从原本的的11.3元降下来9.3元,年程序作业资金省下约5五万元。污泥干化存在量变少30%,垃圾防范资金相关大大减少。